Herstellung dünner metallischer Brücken durch Elektromigration und Charakterisierung mit Rastersondentechniken

In der vorliegenden Arbeit werden metallische Kontakte durch Elektronenstrahllithografie oder Bedampfen durch eine Maske sowie kontrollierte Elektromigration im Ultrahochvakuum hergestellt und mittels Rastersondentechniken charakterisiert. Aus den Rastersondenbildern lassen sich in Verbindung mit de...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Superior document:Experimental Condensed Matter Physics / Karlsruher Institut für Technologie, Physikalisches Institut
:
Year of Publication:2012
Language:German
Series:Experimental Condensed Matter Physics / Karlsruher Institut für Technologie, Physikalisches Institut
Physical Description:1 electronic resource (IV, 98 p. p.)
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
LEADER 01582nam-a2200337z--4500
001 993545458504498
005 20231214141118.0
006 m o d
007 cr|mn|---annan
008 202102s2012 xx |||||o ||| 0|ger d
020 |a 1000027524 
035 |a (CKB)4920000000101573 
035 |a (oapen)https://directory.doabooks.org/handle/20.500.12854/49240 
035 |a (EXLCZ)994920000000101573 
041 0 |a deu 
100 1 |a Stöffler, Dominik  |4 auth 
245 1 0 |a Herstellung dünner metallischer Brücken durch Elektromigration und Charakterisierung mit Rastersondentechniken 
260 |b KIT Scientific Publishing  |c 2012 
300 |a 1 electronic resource (IV, 98 p. p.) 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Experimental Condensed Matter Physics / Karlsruher Institut für Technologie, Physikalisches Institut 
520 |a In der vorliegenden Arbeit werden metallische Kontakte durch Elektronenstrahllithografie oder Bedampfen durch eine Maske sowie kontrollierte Elektromigration im Ultrahochvakuum hergestellt und mittels Rastersondentechniken charakterisiert. Aus den Rastersondenbildern lassen sich in Verbindung mit den Elektromigrationsdaten Rückschlüsse auf die Entstehung der Morphologie des erzeugten Kontakts ziehen. 
546 |a German 
653 |a Elektromigration 
653 |a Nanostrukturen 
653 |a Rastersondenmikroskopie 
653 |a Maskenbedampfung 
653 |a Elektronenstrahllithografie 
776 |z 3-86644-843-0 
906 |a BOOK 
ADM |b 2023-12-15 06:04:19 Europe/Vienna  |f system  |c marc21  |a 2019-11-10 04:18:40 Europe/Vienna  |g false 
AVE |i DOAB Directory of Open Access Books  |P DOAB Directory of Open Access Books  |x https://eu02.alma.exlibrisgroup.com/view/uresolver/43ACC_OEAW/openurl?u.ignore_date_coverage=true&portfolio_pid=5337939990004498&Force_direct=true  |Z 5337939990004498  |b Available  |8 5337939990004498