Physikalische Chemie der Halbleiter / / Arnold Heinrich.

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Superior document:Title is part of eBook package: De Gruyter DGBA Physical Sciences <1990
VerfasserIn:
Place / Publishing House:Berlin ;, Boston : : De Gruyter, , [2022]
©1978
Year of Publication:2022
Edition:Reprint 2021
Language:German
Series:Wissenschaftliche Taschenbücher ; 254
Online Access:
Physical Description:1 online resource (198 p.) :; Mit 47 Abbildungen und 2 Tabellen
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Wissenschaftliche Taschenbücher ; 254
Frontmatter -- Berichtigung -- Vorwort -- Inhaltsverzeichnis -- Häufig verwendete Symbole -- 1. Halbleiter und ihre chemische Bindung -- 1.1. Übersicht über die wichtigsten Halbleiter -- 1.2. Grenzfälle der chemischen Bindung und Energiebändermodell -- 1.3. Energiebändermodell und Ionizität der chemischen Bindung -- 2. Fehlordnungsreaktionen in Kristallen -- Einleitung -- 2.1. Übersicht über die Gitterfehler -- 2.2. Störstellenionisation -- 2.3. Kinetik und Gleichgewicht elektronischer Reaktionen -- 2.4. Zur Formulierung und statistisch-thermodynamischen Behandlung von Störstellenreaktionen -- 2.5. Zur statistisch-thermodynamischen Behandlung elektronischer Reaktionen -- 2.6. Gekoppelte Gleichgewichte bei der Dotierung -- 2.7. Störstellenwechselwirkung und Assoziation -- 2.8. Partialgleichgewichte -- 3. Diffusion und Fehlordnung in Elementhalbleitern -- 3.1. Allgemeines zur Störstellendiffusion -- 3.2. Diffusion neutraler Zwischengitterstörstellen -- 3.3. Diffusion geladener Störstellen -- 3.4. Thermodynamisehe Behandlung der Diffusion -- 3.5. Leerstellenmechahismus der Diffusion -- 3.6. Dissoziativer Mechanismus der Diffusion -- 4. Fehlordnung und Diffusion in Verbindungshalbleitern -- 4.1. Einführung (Zustandsdiagramm) -- 4.2. Gleichgewichte mit neutralen Eigenstörstellen -- 4.3. Gleichgewichte mit ionisierten Eigenstörstellen -- 4.4. Dotierungsgleichgewichte und Selbstkompensation -- 4.5. Diffusion in Verbindungshalbleitern -- 5. Deckschichtbildung durch Reaktion Kristall —Gas (Thermische Si-Oxydation) -- 5.1. Grundlegende Befunde -- 5.2. Elektrochemie der thermischen Si-Oxydation -- Weiterführende Literatur -- Sachverzeichnis -- Backmatter
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Mode of access: Internet via World Wide Web.
In German.
Description based on online resource; title from PDF title page (publisher's Web site, viewed 24. Apr 2022)
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Frontmatter --
Berichtigung --
Vorwort --
Inhaltsverzeichnis --
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1. Halbleiter und ihre chemische Bindung --
1.1. Übersicht über die wichtigsten Halbleiter --
1.2. Grenzfälle der chemischen Bindung und Energiebändermodell --
1.3. Energiebändermodell und Ionizität der chemischen Bindung --
2. Fehlordnungsreaktionen in Kristallen --
Einleitung --
2.1. Übersicht über die Gitterfehler --
2.2. Störstellenionisation --
2.3. Kinetik und Gleichgewicht elektronischer Reaktionen --
2.4. Zur Formulierung und statistisch-thermodynamischen Behandlung von Störstellenreaktionen --
2.5. Zur statistisch-thermodynamischen Behandlung elektronischer Reaktionen --
2.6. Gekoppelte Gleichgewichte bei der Dotierung --
2.7. Störstellenwechselwirkung und Assoziation --
2.8. Partialgleichgewichte --
3. Diffusion und Fehlordnung in Elementhalbleitern --
3.1. Allgemeines zur Störstellendiffusion --
3.2. Diffusion neutraler Zwischengitterstörstellen --
3.3. Diffusion geladener Störstellen --
3.4. Thermodynamisehe Behandlung der Diffusion --
3.5. Leerstellenmechahismus der Diffusion --
3.6. Dissoziativer Mechanismus der Diffusion --
4. Fehlordnung und Diffusion in Verbindungshalbleitern --
4.1. Einführung (Zustandsdiagramm) --
4.2. Gleichgewichte mit neutralen Eigenstörstellen --
4.3. Gleichgewichte mit ionisierten Eigenstörstellen --
4.4. Dotierungsgleichgewichte und Selbstkompensation --
4.5. Diffusion in Verbindungshalbleitern --
5. Deckschichtbildung durch Reaktion Kristall —Gas (Thermische Si-Oxydation) --
5.1. Grundlegende Befunde --
5.2. Elektrochemie der thermischen Si-Oxydation --
Weiterführende Literatur --
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Berichtigung --
Vorwort --
Inhaltsverzeichnis --
Häufig verwendete Symbole --
1. Halbleiter und ihre chemische Bindung --
1.1. Übersicht über die wichtigsten Halbleiter --
1.2. Grenzfälle der chemischen Bindung und Energiebändermodell --
1.3. Energiebändermodell und Ionizität der chemischen Bindung --
2. Fehlordnungsreaktionen in Kristallen --
Einleitung --
2.1. Übersicht über die Gitterfehler --
2.2. Störstellenionisation --
2.3. Kinetik und Gleichgewicht elektronischer Reaktionen --
2.4. Zur Formulierung und statistisch-thermodynamischen Behandlung von Störstellenreaktionen --
2.5. Zur statistisch-thermodynamischen Behandlung elektronischer Reaktionen --
2.6. Gekoppelte Gleichgewichte bei der Dotierung --
2.7. Störstellenwechselwirkung und Assoziation --
2.8. Partialgleichgewichte --
3. Diffusion und Fehlordnung in Elementhalbleitern --
3.1. Allgemeines zur Störstellendiffusion --
3.2. Diffusion neutraler Zwischengitterstörstellen --
3.3. Diffusion geladener Störstellen --
3.4. Thermodynamisehe Behandlung der Diffusion --
3.5. Leerstellenmechahismus der Diffusion --
3.6. Dissoziativer Mechanismus der Diffusion --
4. Fehlordnung und Diffusion in Verbindungshalbleitern --
4.1. Einführung (Zustandsdiagramm) --
4.2. Gleichgewichte mit neutralen Eigenstörstellen --
4.3. Gleichgewichte mit ionisierten Eigenstörstellen --
4.4. Dotierungsgleichgewichte und Selbstkompensation --
4.5. Diffusion in Verbindungshalbleitern --
5. Deckschichtbildung durch Reaktion Kristall —Gas (Thermische Si-Oxydation) --
5.1. Grundlegende Befunde --
5.2. Elektrochemie der thermischen Si-Oxydation --
Weiterführende Literatur --
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1. Halbleiter und ihre chemische Bindung --
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1.2. Grenzfälle der chemischen Bindung und Energiebändermodell --
1.3. Energiebändermodell und Ionizität der chemischen Bindung --
2. Fehlordnungsreaktionen in Kristallen --
Einleitung --
2.1. Übersicht über die Gitterfehler --
2.2. Störstellenionisation --
2.3. Kinetik und Gleichgewicht elektronischer Reaktionen --
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2.5. Zur statistisch-thermodynamischen Behandlung elektronischer Reaktionen --
2.6. Gekoppelte Gleichgewichte bei der Dotierung --
2.7. Störstellenwechselwirkung und Assoziation --
2.8. Partialgleichgewichte --
3. Diffusion und Fehlordnung in Elementhalbleitern --
3.1. Allgemeines zur Störstellendiffusion --
3.2. Diffusion neutraler Zwischengitterstörstellen --
3.3. Diffusion geladener Störstellen --
3.4. Thermodynamisehe Behandlung der Diffusion --
3.5. Leerstellenmechahismus der Diffusion --
3.6. Dissoziativer Mechanismus der Diffusion --
4. Fehlordnung und Diffusion in Verbindungshalbleitern --
4.1. Einführung (Zustandsdiagramm) --
4.2. Gleichgewichte mit neutralen Eigenstörstellen --
4.3. Gleichgewichte mit ionisierten Eigenstörstellen --
4.4. Dotierungsgleichgewichte und Selbstkompensation --
4.5. Diffusion in Verbindungshalbleitern --
5. Deckschichtbildung durch Reaktion Kristall —Gas (Thermische Si-Oxydation) --
5.1. Grundlegende Befunde --
5.2. Elektrochemie der thermischen Si-Oxydation --
Weiterführende Literatur --
Sachverzeichnis --
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