Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture : colloque

Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture : colloque / 11 : Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois

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Superior document:Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11
MitwirkendeR:
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture 11 1995 Löwen
HerausgeberIn:
VanSchoute, Roger
Place / Publishing House:Louvain-la-Neuve : Collège Érasme [u.a.], 1997
Year of Publication:1997
Language:Multiple
Series:Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art 29
Physical Description:278, 121 S.; zahlr. Ill.
Notes:Literaturangaben
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id 990002020150504498
ctrlnum AC02448912
(AT-OBV)AC02448912
(Aleph)000675395ACC01
(DE-599)OBVAC02448912
(EXLNZ-43ACC_NETWORK)990006753950203331
collection bib_alma
institution YWOAW
building MAG1
record_format marc
spelling <<Le>> dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11 Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois
Louvain-la-Neuve Collège Érasme [u.a.] 1997
278, 121 S. zahlr. Ill.
Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art 29
Literaturangaben
Beitr. teilw. engl., teilw. franz.
VanSchoute, Roger edt
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture 11 1995 Löwen (DE-588)5281439-7 ctb
(AT-OBV)AC02656779
(AT-OBV)AC00426149 29
YWOAW MAG1 82108.29 2216469670004498
language Multiple
format Conference Proceeding
Book
author2 VanSchoute, Roger
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture 11 1995 Löwen
author_facet VanSchoute, Roger
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture 11 1995 Löwen
Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture
author2_variant r v rv
author2_role HerausgeberIn
MitwirkendeR
author_corporate Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture
author_corporate_role MitwirkendeR
title Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque
spellingShingle Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque
Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art
title_sub colloque
title_full Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11 Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois
title_fullStr Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11 Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois
title_full_unstemmed Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11 Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois
title_auth Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque
title_new Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture
title_sort dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [louvain] / éd. par roger van schoute et hélène verougstraete avec la collab. de anne dubois
series Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art
series2 Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art
publisher Collège Érasme [u.a.]
publishDate 1997
physical 278, 121 S. zahlr. Ill.
callnumber-raw 82108.29
callnumber-search 82108.29
illustrated Illustrated
work_keys_str_mv AT vanschouteroger ledessinsousjacentetlatechnologiedanslapeinturecolloque11
AT colloquepourletudedudessinsousjacentetdelatechnologiedelapeinturelowen ledessinsousjacentetlatechnologiedanslapeinturecolloque11
status_str n
ids_txt_mv (AT-OBV)AC02448912
AC02448912
(Aleph)000675395ACC01
(DE-599)OBVAC02448912
(EXLNZ-43ACC_NETWORK)990006753950203331
hol852bOwn_txt_mv YWOAW
hol852hSignatur_txt_mv 82108.29
hol852cSonderstandort_txt_mv MAG1
itmData_txt_mv 2001-12-17 01:00:00 Europe/Vienna
barcode_str_mv @YW000011346
callnumbers_txt_mv 82108.29
inventoryNumbers_str_mv OAW-11346
materialTypes_str_mv BOOK
permanentLibraries_str_mv YWOAW
permanentLocations_str_mv MAG1
inventoryDates_str_mv 19991010
createdDates_str_mv 2001-12-17 01:00:00 Europe/Vienna
holdingIds_str_mv 2216469670004498
title_part_txt Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois
hierarchy_parent_id AC02656779
hierarchy_parent_title <<Le>> dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11
hierarchy_sequence 29
is_hierarchy_id AC02448912
is_hierarchy_title <<Le>> dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque
container_title <<Le>> dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture colloque 11
container_reference AC02656779
author2_original_writing_str_mv noLinkedField
noLinkedField
_version_ 1787548106862100481
fullrecord <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01319nam#a2200313zcc4500</leader><controlfield tag="001">990002020150504498</controlfield><controlfield tag="005">20230203191737.0</controlfield><controlfield tag="007">tu</controlfield><controlfield tag="008">981019|1997####|||###########|||#|#mul#c</controlfield><controlfield tag="009">AC02448912</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(AT-OBV)AC02448912</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">AC02448912</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(Aleph)000675395ACC01</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)OBVAC02448912</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(EXLNZ-43ACC_NETWORK)990006753950203331</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">UBW</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="d">UBW</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">mul</subfield></datafield><datafield tag="044" ind1=" " ind2=" "><subfield code="c">XA-BE</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture</subfield><subfield code="b">colloque</subfield><subfield code="n">11</subfield><subfield code="p">Dessin sous-jacent et technologie de la peinture : perspectives ; 14 - 16 septembre 1995 ; [Louvain] / éd. par Roger Van Schoute et Hélène Verougstraete avec la collab. de Anne Dubois</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Louvain-la-Neuve</subfield><subfield code="b">Collège Érasme [u.a.]</subfield><subfield code="c">1997</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">278, 121 S.</subfield><subfield code="b">zahlr. Ill.</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Document de travail / Université Catholique de Louvain, Institut Supérieur d'Archéologie et d'Histoire de l'Art</subfield><subfield code="v">29</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Literaturangaben</subfield></datafield><datafield tag="546" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Beitr. teilw. engl., teilw. franz.</subfield></datafield><datafield tag="700" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">VanSchoute, Roger</subfield><subfield code="4">edt</subfield></datafield><datafield tag="711" ind1="2" ind2=" "><subfield code="a">Colloque pour l'Étude du Dessin Sous-Jacent et de la Technologie de la Peinture</subfield><subfield code="n">11</subfield><subfield code="d">1995</subfield><subfield code="c">Löwen</subfield><subfield code="0">(DE-588)5281439-7</subfield><subfield code="4">ctb</subfield></datafield><datafield tag="773" ind1="0" ind2="8"><subfield code="w">(AT-OBV)AC02656779</subfield></datafield><datafield tag="830" ind1=" " ind2="0"><subfield code="w">(AT-OBV)AC00426149</subfield><subfield code="v">29</subfield></datafield><datafield tag="900" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Schoute, Roger Van</subfield></datafield><datafield tag="970" ind1="1" ind2=" "><subfield code="c">45</subfield></datafield><datafield tag="ADM" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">2023-02-03 19:17:37 Europe/Vienna</subfield><subfield code="d">20</subfield><subfield code="f">System</subfield><subfield code="c">marc21</subfield><subfield code="a">2018-12-24 07:04:56 Europe/Vienna</subfield><subfield code="g">false</subfield></datafield><datafield tag="HOL" ind1="8" ind2=" "><subfield code="b">YWOAW</subfield><subfield code="h">82108.29</subfield><subfield code="c">MAG1</subfield><subfield code="8">2216469670004498</subfield></datafield><datafield tag="852" ind1="8" ind2=" "><subfield code="b">YWOAW</subfield><subfield code="c">MAG1</subfield><subfield code="h">82108.29</subfield><subfield code="8">2216469670004498</subfield></datafield><datafield tag="ITM" ind1=" " ind2=" "><subfield code="9">2216469670004498</subfield><subfield code="e">1</subfield><subfield code="m">BOOK</subfield><subfield code="b">@YW000011346</subfield><subfield code="i">OAW-11346</subfield><subfield code="2">MAG1</subfield><subfield code="o">19991010</subfield><subfield code="8">2316469660004498</subfield><subfield code="f">02</subfield><subfield code="p">2001-12-17 01:00:00 Europe/Vienna</subfield><subfield code="h">82108.29</subfield><subfield code="1">YWOAW</subfield><subfield code="q">2022-06-10 12:59:02 Europe/Vienna</subfield></datafield></record></collection>

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