Untersuchungen zur Photochemie arylsubstituierter Sulfoniumsalze in Lösung und polymerer Matrix für neue Informationsaufzeichnungsmaterialien / von Kerstin Schulze-Matthäi

Saved in:
Bibliographic Details
VerfasserIn:
Place / Publishing House:2002
Year of Publication:2002
Language:German
Subjects:
Physical Description:150 Bl.; graph. Darst.; 30 cm
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
LEADER 01963nam#a2200553#c#4500
001 990000581710504498
005 20230202174234.0
007 tu
008 030610|2002####|||######m####|||#u#ger#c
009 AC03741834
015 |a 03,H04,1111  |2 dnb 
035 |a (AT-OBV)AC03741834 
035 |a AC03741834 
035 |a (Aleph)003730980ACC01 
035 |a (DE-599)OBVAC03741834 
035 |a (EXLNZ-43ACC_NETWORK)990037309800203331 
040 |a OAW  |b ger  |c 292  |e rakddb 
041 |a ger 
044 |c XA-DE 
084 |a 30  |q DE-101  |2 sdnb 
084 |a 22.5;22.2  |a 22.5  |2 sdnb 
090 |a b  |h h 
100 1 |a Schulze-Matthäi, Kerstin  |d 1970-  |0 (DE-588)123725429  |4 aut 
245 1 0 |a Untersuchungen zur Photochemie arylsubstituierter Sulfoniumsalze in Lösung und polymerer Matrix für neue Informationsaufzeichnungsmaterialien  |c von Kerstin Schulze-Matthäi 
264 1 |c 2002 
300 |a 150 Bl.  |b graph. Darst.  |c 30 cm 
502 |a Berlin, Humboldt-Univ., Diss., 2002 
530 |a Mikrofiche-Ausg. 
533 |e 2 Mikrofiches 
689 0 0 |a Sulfoniumsalze  |D s  |0 (DE-588)4609914-1 
689 0 1 |a Arylgruppe  |D s  |0 (DE-588)4383126-6 
689 0 2 |a Fotolyse  |D s  |0 (DE-588)4174520-6 
689 0 3 |a Reaktionsmechanismus  |D s  |0 (DE-588)4177123-0 
689 0 4 |a Chemische Struktur  |D s  |0 (DE-588)4009857-6 
689 0 5 |a Fotochemische Eigenschaft  |D s  |0 (DE-588)4645624-7 
689 0 |5 AT-OBV  |5 DDB 
689 1 0 |a Sulfoniumsalze  |D s  |0 (DE-588)4609914-1 
689 1 1 |a Arylgruppe  |D s  |0 (DE-588)4383126-6 
689 1 2 |a Polymergebundener Stoff  |D s  |0 (DE-588)4175238-7 
689 1 3 |a Fotolyse  |D s  |0 (DE-588)4174520-6 
689 1 4 |a Reaktionsmechanismus  |D s  |0 (DE-588)4177123-0 
689 1 |5 AT-OBV  |5 DDB 
689 2 0 |a Sulfoniumsalze  |D s  |0 (DE-588)4609914-1 
689 2 1 |a Arylgruppe  |D s  |0 (DE-588)4383126-6 
689 2 2 |a Photoresist  |D s  |0 (DE-588)4174545-0 
689 2 |5 AT-OBV  |5 DDB 
970 1 |c 30 
974 0 u |V 903  |a 213456  |a 341256  |a 431256  |a 563412  |a 653412 
974 0 u |V 908  |a 21345  |a 31245  |a 45312  |a 54312 
974 0 u |V 913  |a 213  |a 312 
ADM |b 2024-05-13 12:30:05 Europe/Vienna  |d 20  |f System  |c marc21  |a 2018-12-24 09:36:14 Europe/Vienna  |g false 
HOL 8 |b YWOAW  |h 29891-MF  |c BASIS-CD  |8 2218255850004498 
852 8 |b YWOAW  |c BASIS-CD  |h 29891-MF  |8 2218255850004498 
ITM |9 2218255850004498  |e 1  |m CDROM  |b +YW2187401  |i 29891-MF  |2 BASIS-CD  |o 20030610  |8 2318255820004498  |f 01  |p 2003-06-10 02:00:00 Europe/Vienna  |h 29891-MF  |1 YWOAW  |q 2018-12-24 09:38:11 Europe/Vienna