Kristall und Technik : : [Fortsetzung: Crystal Research and Technology]. / Band 7, Heft 9.

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Bibliographic Details
MitwirkendeR:
Place / Publishing House:Berlin ;, Boston : : De Gruyter, , [2022]
©1972
Year of Publication:2022
Edition:Reprint 2022
Language:German
Series:Kristall und Technik ; Band 7, Heft 9
Online Access:
Physical Description:1 online resource (132 p.)
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Description
Other title:Frontmatter --
Hinweise für die Autoren --
Inhalt --
Orginalbeiträge --
Zur Theorie der Tribolumineszenz --
Thermodynamic Approach to Diffusion-Controlled Epitaxial Silicon Deposition in Flow System from SiCl4 + H2 Mixtures --
The P-T-x Phase Diagram of the Mn-As System --
Ätzuntersuchungen an Verneuilspinellen --
Untersuchung der Ausscheidungsverhältnisse von schmelzgegossenen hochaluminiumoxidhaltigen feuerfesten Materialien --
On the Symmetry of OD-Structures Consisting of Equivalent Layers --
Die Parameter der Drehung und die Orientierungsverteilungsfunktion (OVF) --
Kürze Originalmitteilungen --
Absorption and Reflectivity of Hg2Cl^ in a Broad Frequency Range --
On the Preparation of CdTe Junction Detectors for Nuclear Radiation Spectrometry --
Eine radiochemische Methode zur Bestimmung der Elektronenkonzentration in festen Stoffen --
Buchbesprechung --
Symmetrie und anorganische Strukturchemie --
Neues aus der Theorie der chemischen Bindung --
Computational Methods in Band Theory --
Reinststoffe in Wissenschaft und Technik
Format:Mode of access: Internet via World Wide Web.
ISBN:9783112653784
DOI:10.1515/9783112653784
Access:restricted access
Hierarchical level:Monograph